top of page
検索
  • yseike

先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術が発刊されました!


技術情報協会より先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術が発刊されました。本書の第8章 半導体の洗浄技術、メカニズムと分析、評価技術 7節電子デバイスのスプレー洗浄技術と静電気障害対策に執筆しています。

よろしければ、ご覧頂ければと思います。

閲覧数:20回0件のコメント

最新記事

すべて表示

Kommentit


bottom of page