yseike2022年11月2日読了時間: 1分M2の鈴木洋陽君RCJ信頼性尻尾ジウムで発表M2の鈴木くんがRCJ信頼性尻尾ジウムで「半導体製造⼯程における⼆流体スプレー洗浄時に発⽣する静電気障害の防⽌技術」というタイトルで発表しました。貫禄でてきました。お疲れさまでした。
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