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清家善之: ペロブスカイト太陽電池の高付加価値化への取り組み, 車載テクノロジー, 第11巻 第5号 pp7-11. (2024)

Yoshiyuki Seike, Hiroharu Suzuki, Yusuke Ichino, Tatsuo Mori: ESD Prevention Technology for Two-Fluid Pure Water Spray Cleaning with Controlled Electrostatic Charge, Solid State Phenomena, 346, pp.244-249, (2023).


清家善之 : 半導体デバイス製造に用いられる物理的なウェット洗浄, 砥粒加工学会誌, 第67巻 第7号, pp. 389-392. (2023年7月)


清家善之 : 半導体デバイスの物理的ウエット洗浄技術, 混相流, 第32巻 第2号, pp. 189-196. (2023年6月)


Tatsuya Kato, Yusuke Ichino, Tatsuo Mori and Yoshiyuki Seike: Effects of Potassium Doping on the Active Layer of Inverse-structured Perovskite Solar Cells, IEICE Transaction on Electronics, E106-C(6) , pp. 220-227 (2023).


鈴木洋陽,森竜雄, 一野祐亮, 清家善之: 誘導帯電による純水スプレー時に発生する液滴中の帯電量制御, 静電気学会誌, 第47巻,3号, pp.108- 113, (2023).


Ryo Sato, Yusuke Ichino, Yoshiyuki Seike, Tatsuo Mori: Change in electron and hole electrical conductions in OLEDs with different doping concentrations of 4CzIPN, Molecular Crystals and Liquid Crystals,

鈴木洋陽, 福岡靖晃, 森竜雄, 一野祐亮, 清家善之: 純水の二流体スプレー時に発生する静電気と液滴特性の関係性, 静電気学会誌, 第46巻,1号, pp.38- 43, (2022).



福岡靖晃, 鈴木洋陽, 森竜雄, 一野祐亮, 瀬川大司, 小林義典, 宮地計二, 清家善之: 回帰機械学習を用いた純水の高圧スプレーで生じる静電気量の予知技術, 静電気学会誌, 第46巻,1号, pp.8- 13, (2022).

Yoshiyuki Seike, Daiki Tangiku, Tatsuo Mori: Impact of substrate temperatures on active layer depositions of organic thin-film photovoltaic cells by electrospray, Int. J. Nanomanufacturing, 17(2), pp.105-118, (2021).

Ryo Sato, Satoru Aoyama, Yoshiyuki Seike, Tatsuo Mori: “Electrical conductivity of 1,3-bis(N-carbazolyl)benzene (mCP) on a hole-transport bilayer”, Molecular Crystals and Liquid Crystals, 729, pp.68-77, (2021).

Daiki Okawa, Yoshiyuki Seike, Tatsuo Mori: “Effect of 2-propanol Immersing on Organohalide Perovskite Layer in Perovskite Solar Cells Fabricated by Two-step Method”, Journal of Photopolymer Science and Technology, 34(3), pp.279-284, (2021).

Yoshiyuki Seike, Yasuaki Fukuoka, Tatsuo Mori, Taishi Segawa, Yoshinori Kobayashi, Keiji Miyachi;”Clarification and Countermeasures of Electrostatic Discharge in High-Pressure Spray Cleaning During Flat-Panel Display Manufacturing”, Electrical Overstress / Electrostatic Discharge Symposium Proceedings 2020, pp.215-220, (2020).



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Tatsuo Mori, Hiroyuki Okada, Vincent Obiozo Eze, Yoshiyuki Seike; “Effect of Air-Flow and Solvent Annealing on Fabrication of Perovskite Active Layer and Photovoltaic Properties of Cells with the Active Layer,Journal of Photopolymer Science and Technology, 33(4), pp.399-404, (2020).



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Yoshiyuki Seike, Daiki Tangiku, Tatsuo Mori; “Microfabrication of Organic Thin Film Photovoltaic Cell  by Electrospray Deposition Method”, International Advancement in Ultraprecision Machining Process (CJUMP), 5, pp.69-72, (2019).



Yoshiyuki Seike, Yoshinori Kobayahi, Keiji Miyachi, Taka Nishikawa, Tatuso Mori; “Fabrication and Characterization of Organic Thin Film Photovoltaic (OPV) Cell for Spray Cating” Advanced Micro-Fabrication and Green Technology, Transaction of MIRAI, 7, pp.70-74.



Yoshiyuki Seike, Hiroki Matsuoka, Shingo Matsuki, Taishi Segawa, Yoshinori Kobayashi, Keiji Miyachi, Tasuo Mori; “Electrostatic discharge prevention in ultra-pure water spray cleaning aimed at CFM” Proceeding of 30th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC).



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Tatsuo Mori, Yoshinori Kobayashi, Hiroki Akenaga, Yoshiyuki Seike, Keiji Miyachi, Takao Nishikawa, “Development of Environmentally Controlled Desktop Spray Coater and Optimization of Deposition Conditions for Organic Thin-film Photovoltaic Cells” Journal of Photopolymer Science and Technology, 31(2), pp.335-341, (2018)


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Yoshiyuki Seike, Masanori Ohtsubo, Futoshi Shimai, Kenji Maruyama, Hiroyuki Akenaga, Yoshinori Kobayashi, Keiji Miyachi, Masahiko Amari, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, “Conformal Photo-resist Coating Technique in the Through-Silicon Via (TSV) of the Semiconductor Devices with the Rotary Atomizing Aerosol Spray”, Int. J. Nanomanufacturing, 9(2), 178-193, (2013).



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清家善之, 大坪正徳, 島井太, 丸山健治,山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎, 黒河周平, 大西修; 三次元スタック構造の半導体デバイスにおけるコンフォーマル成膜技術に関する研究- 第1報 回転霧化エアロゾルスプレーによるTSV内の成膜方法の提案とその装置化-, 精密工学会誌, 第78巻11号, pp.965-969, (2012).



宮地計二, 黒河周平, 清家善之,土肥俊郎, 泉川晋一, 赤間太郎, 大西修; CMPにおける高圧マイクロジェットによる不織布パッドの非破壊コンディショニング, 精密工学会誌, 第76巻 第9号, pp1076-1081, (2010).



宮地計二, 黒河周平, 川島早由里, 明永裕樹, 清家善之, 小林義典, 大西修, 土肥俊郎;高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究-ノズル形状の違いが洗浄力に与える影響-,精密工学会誌, 第76巻 第8号, pp.907-911, (2010).



Yoshiyuki Seike, Keiji Miyachi, Tatsuo Shibata, Yoshinori Kobayashi, Syuhei Kurokawa, Toshiro Doi; "Silicon Wafer Cleaning Using New Liquid Aerosol with Controlled Droplets Velocity and Size by Rotary Atomizer Method“, Japanese Journal of Applied Physics, 49, 066701, (2010).



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清家善之,シリコンウェハ製造工程に用いられる高圧マイクロジェット洗浄技術,"砥粒加工学会誌, 第53巻 第9号, pp.540-543. "



宮地計二, 黒河周平, 清家善之, 山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎; “スプレー式洗浄の粒子解析と洗浄力に関する考察-二流体スプレーと高圧マイクロジェットの洗浄力比較-”, 精密工学会誌, 第75巻 第4号, pp.536-541, (2009).



宮地計二, 黒河周平, 清家善之, 山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎, “高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究 -粒子挙動解析と洗浄実験による考察-”, 精密工学会誌, 第74巻 第10号, pp1074-1079, (2008).



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清家善之, 甘利昌彦, 宮地計二, 土肥俊郎; 超高圧マイクロジェットによる半導体CMPパッドの洗浄・コンディショニング技術, 砥粒加工学会誌, 第51巻 第3号, pp.134-137, (2006).



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清家善之, 李考相, 高岡峰雄, 宮地計二, 土肥俊郎, Ara Philipossian; 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパッドコンディショニング法の開発-蛍光スラリーを利用したパッド溝内のスラリー残渣の洗浄性確認,"砥粒加工学会誌, 第50巻 第8号, pp. 465-470, (2006).



清家善之, 李考相, 宮地計二, 土肥俊郎, アラ・フィリポシアン; 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパッドコンディショニング法の開発-酸化膜ILDの連続CMPにおける研磨特性とパッド表面状態の評価-, 精密工学会誌, 第72巻 第7号, pp.924-928, 2006.



Yoshiyuki Seike, Hyo-sang Lee, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi, Masahiko Amari. Toshiro Doi, Ara Philipossian, “Development of a Pad Conditioning Process for Inter-Layer Dielectric Chemical Mechanical Planarization using High-Pressure Micro Jet Technology” Journal of The Electrochemical Society 153, G223, (2006).

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