top of page

Ryo Sato, Yusuke Ichino, Yoshiyuki Seike, Tatsuo Mori: Change in electron and hole electrical conductions in OLEDs with different doping concentrations of 4CzIPN, Molecular Crystals and Liquid Crystals,

鈴木洋陽, 福岡靖晃, 森竜雄, 一野祐亮, 清家善之: 純水の二流体スプレー時に発生する静電気と液滴特性の関係性, 静電気学会誌, 第46巻,1号, pp.38- 43, (2022).



福岡靖晃, 鈴木洋陽, 森竜雄, 一野祐亮, 瀬川大司, 小林義典, 宮地計二, 清家善之: 回帰機械学習を用いた純水の高圧スプレーで生じる静電気量の予知技術, 静電気学会誌, 第46巻,1号, pp.8- 13, (2022).

Yoshiyuki Seike, Daiki Tangiku, Tatsuo Mori: Impact of substrate temperatures on active layer depositions of organic thin-film photovoltaic cells by electrospray, Int. J. Nanomanufacturing, 17(2), pp.105-118, (2021).

Ryo Sato, Satoru Aoyama, Yoshiyuki Seike, Tatsuo Mori: “Electrical conductivity of 1,3-bis(N-carbazolyl)benzene (mCP) on a hole-transport bilayer”, Molecular Crystals and Liquid Crystals, 729, pp.68-77, (2021).

Daiki Okawa, Yoshiyuki Seike, Tatsuo Mori: “Effect of 2-propanol Immersing on Organohalide Perovskite Layer in Perovskite Solar Cells Fabricated by Two-step Method”, Journal of Photopolymer Science and Technology, 34(3), pp.279-284, (2021).

Yoshiyuki Seike, Yasuaki Fukuoka, Tatsuo Mori, Taishi Segawa, Yoshinori Kobayashi, Keiji Miyachi;”Clarification and Countermeasures of Electrostatic Discharge in High-Pressure Spray Cleaning During Flat-Panel Display Manufacturing”, Electrical Overstress / Electrostatic Discharge Symposium Proceedings 2020, pp.215-220, (2020).



Vincent Obiozo Eze, Yoshiyuki Seike, and Tatsuo Mori; “Synergistic Effect of Additive and Solvent Vapor Annealing on the Enhancement of MAPbI3 Perovskite Solar Cells Fabricated in Ambient Air”, ACS Applied Materials & Interfaces, 12(41) pp.46387-46845, (2020).



Tatsuo Mori, Hiroyuki Okada, Vincent Obiozo Eze, Yoshiyuki Seike; “Effect of Air-Flow and Solvent Annealing on Fabrication of Perovskite Active Layer and Photovoltaic Properties of Cells with the Active Layer,Journal of Photopolymer Science and Technology, 33(4), pp.399-404, (2020).



Y. Seike, R. Sawaki, R. Shimizu, T. Hikida, Y. Honda, M. Sato, T. Mori; “Analysis of Polyethylene Latex Particle Removal Mechanism on SiO2 Wafer Using Ultrasonic Spray Cleaning”, ECS Transactions, 92(2), pp.199-207, (2019).



Yoshiyuki Seike, Daiki Tangiku, Tatsuo Mori; “Microfabrication of Organic Thin Film Photovoltaic Cell  by Electrospray Deposition Method”, International Advancement in Ultraprecision Machining Process (CJUMP), 5, pp.69-72, (2019).



Yoshiyuki Seike, Yoshinori Kobayahi, Keiji Miyachi, Taka Nishikawa, Tatuso Mori; “Fabrication and Characterization of Organic Thin Film Photovoltaic (OPV) Cell for Spray Cating” Advanced Micro-Fabrication and Green Technology, Transaction of MIRAI, 7, pp.70-74.



Yoshiyuki Seike, Hiroki Matsuoka, Shingo Matsuki, Taishi Segawa, Yoshinori Kobayashi, Keiji Miyachi, Tasuo Mori; “Electrostatic discharge prevention in ultra-pure water spray cleaning aimed at CFM” Proceeding of 30th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC).



Tatsuo Mori, Satoru Aoyama, and Yoshiyuki Seike, “Electrical Conduction and Luminescence for Inverted-Type Organic Light-Emitting Diodes with Polyethyleneimine”, Journal of Photopolymer Science and Technology, 32(4), pp.571-576, (2019).



Tatsuo Mori, Yoshinori Kobayashi, Hiroki Akenaga, Yoshiyuki Seike, Keiji Miyachi, Takao Nishikawa, “Development of Environmentally Controlled Desktop Spray Coater and Optimization of Deposition Conditions for Organic Thin-film Photovoltaic Cells” Journal of Photopolymer Science and Technology, 31(2), pp.335-341, (2018)


Vincent Obiozo Eze, Yoshiyuki Seike, Tatsuo Mori; “Efficient planar perovskite solar cells using solution-processed amorphous WOx /fullerene C60 as electron extraction layers”, Organic Electronics, 46, pp. 253-262, (2017).



Yoshiyuki Seike, Masanori Ohtsubo, Futoshi Shimai, Kenji Maruyama, Hiroyuki Akenaga, Yoshinori Kobayashi, Keiji Miyachi, Masahiko Amari, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, “Conformal Photo-resist Coating Technique in the Through-Silicon Via (TSV) of the Semiconductor Devices with the Rotary Atomizing Aerosol Spray”, Int. J. Nanomanufacturing, 9(2), 178-193, (2013).



清家善之; 電子デバイスのスプレー洗浄工程における静電気対策,"静電気学会誌, 第36巻 第6号, pp.338-343, (2012).



清家善之, 大坪正徳, 島井太, 丸山健治,山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎, 黒河周平, 大西修; 三次元スタック構造の半導体デバイスにおけるコンフォーマル成膜技術に関する研究- 第1報 回転霧化エアロゾルスプレーによるTSV内の成膜方法の提案とその装置化-, 精密工学会誌, 第78巻11号, pp.965-969, (2012).



宮地計二, 黒河周平, 清家善之,土肥俊郎, 泉川晋一, 赤間太郎, 大西修; CMPにおける高圧マイクロジェットによる不織布パッドの非破壊コンディショニング, 精密工学会誌, 第76巻 第9号, pp1076-1081, (2010).



宮地計二, 黒河周平, 川島早由里, 明永裕樹, 清家善之, 小林義典, 大西修, 土肥俊郎;高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究-ノズル形状の違いが洗浄力に与える影響-,精密工学会誌, 第76巻 第8号, pp.907-911, (2010).



Yoshiyuki Seike, Keiji Miyachi, Tatsuo Shibata, Yoshinori Kobayashi, Syuhei Kurokawa, Toshiro Doi; "Silicon Wafer Cleaning Using New Liquid Aerosol with Controlled Droplets Velocity and Size by Rotary Atomizer Method“, Japanese Journal of Applied Physics, 49, 066701, (2010).



H. Lee, Y. Zhuang, M. Sugiyama, Y. Seike, M. Takaoka, K. Miyachi, T. Nishiguchi, H. Kojima, A. Philipossian; "Pad flattening ratio, coefficient of friction and removal rate analysis during silicon dioxide chemical mechanical planarization", Journal of Thin Solid Films, 518, pp.1994-2000, (2007).



清家善之,シリコンウェハ製造工程に用いられる高圧マイクロジェット洗浄技術,"砥粒加工学会誌, 第53巻 第9号, pp.540-543. "



宮地計二, 黒河周平, 清家善之, 山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎; “スプレー式洗浄の粒子解析と洗浄力に関する考察-二流体スプレーと高圧マイクロジェットの洗浄力比較-”, 精密工学会誌, 第75巻 第4号, pp.536-541, (2009).



宮地計二, 黒河周平, 清家善之, 山本浩之, 小林義典, 土肥俊郎, “高圧マイクロジェットの洗浄力に関する研究 -粒子挙動解析と洗浄実験による考察-”, 精密工学会誌, 第74巻 第10号, pp1074-1079, (2008).



H. Lee, D. DeNardis, A. Philipossian, Y. Seike, M. Takaoka, K. Miyachi and T. Doi; “Development of a Pad Conditioning Method for ILD CMP using a High pressure Micro Jet System”, Transactions on Electrical and Electronic Materials, 8(1), pp.26-31, 2007.



H. Lee, D. DeNardis, A. Philipossian, Y. Seike, M. Takaoka, K. Miyachi, S. Furukawa, A. Terada, Y. Zhuang and L. Borucki; "Thermal, Tribological and Removal Rate Characteristics of Pad Conditioning in Copper CMP", Transactions on Electrical and Electronic Materials, 8(2), pp.67-72, (2007).



清家善之, 甘利昌彦, 宮地計二, 土肥俊郎; 超高圧マイクロジェットによる半導体CMPパッドの洗浄・コンディショニング技術, 砥粒加工学会誌, 第51巻 第3号, pp.134-137, (2006).



Hyo-sang Lee. Yoshiyuki Seike, Zhonglin Li, Yun Zhuang, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi, Ara Philipossian, “Characterization of Slurry Residues in Pad Grooves for Diamond Disc and High-Pressure-Micro-Jet Pad Conditioning Process”, Japanese Journal of Applied Physics,45,  pp. 1325-1327, (2006).



清家善之, 李考相, 高岡峰雄, 宮地計二, 土肥俊郎, Ara Philipossian; 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパッドコンディショニング法の開発-蛍光スラリーを利用したパッド溝内のスラリー残渣の洗浄性確認,"砥粒加工学会誌, 第50巻 第8号, pp. 465-470, (2006).



清家善之, 李考相, 宮地計二, 土肥俊郎, アラ・フィリポシアン; 高圧マイクロジェット(HPMJ)を用いたCMPパッドコンディショニング法の開発-酸化膜ILDの連続CMPにおける研磨特性とパッド表面状態の評価-, 精密工学会誌, 第72巻 第7号, pp.924-928, 2006.



Yoshiyuki Seike, Hyo-sang Lee, Mineo Takaoka, Keiji Miyachi, Masahiko Amari. Toshiro Doi, Ara Philipossian, “Development of a Pad Conditioning Process for Inter-Layer Dielectric Chemical Mechanical Planarization using High-Pressure Micro Jet Technology” Journal of The Electrochemical Society 153, G223, (2006).

Top of the page

bottom of page